삼성전자 "EUV '펠리클' 투과율 90%…국내 공급 업체는 없다" [줌 컴퍼니]

강 펠로우는 "올해 3분기까지 삼성전자가 활용하는 EUV 펠리클의 투과율은 90%를 기록했다"며 "향후 투과율을 94~96%까지 올리는 것이 목표"라고 설명했다.

펠리클과 마스크는 빛으로 반도체 회로를 반복적으로 찍어내는 노광 공정에서 필요한 소재다. 펠리클은 회로가 새겨진 마스크에 이물질이 묻는 것을 차단해 불량을 막는 덮개 역할을 한다.

최첨단 노광 공정인 EUV 공정에서 쓰이는 펠리클은 기존 심자외선(DUV)용 펠리클과 구조가 아예 다르다. 모든 물질에 흡수되는 EUV를 마스크에 닿게 한 후 이 온전하게 펠리클 바깥으로 빠져나가도록 해야 하기 때문이다. 강 펠로우가 말한 '투과율'은 이 이야기다. 펠리클로 진입한 빛 가운데 90%만 통과해 마스크에 닿았다는 얘기다. 이론으로 구현한 회로를 완벽하게 그리지 못할 수도 있다. 또한 범용 공정인 불화아르곤(ArF)용 펠리클의 투과율이 99.3%나 되는 것에 비하면 투과율이 비교적 낮다

품질도 중요하다. EUV가 펠리클을 통과하면서 발생하는 열로 인해 휘거나 깨지는 상황을 막아야 하기 때문이다. EUV 펠리클은 투과율과 품질 모두를 고려해야 해 상용화 난도가 높다.

강 펠로우는 EUV 펠리클 공급사가 일본 미쓰이 단 한 군데라고 공개했다. 에프에스티(036810), 에스앤에스텍(101490) 등 한국 기업들이 EUV 펠리클 개발에 분전 중이나 아직 양산에 투입되지는 않았다는 얘기다. 공정 미세화와 ASML의 EUV 노광기 수가 증가할 수록 펠리클의 필요성도 커지는 가운데, 한국 기업 중에서는 누가 먼저 삼성전자의 파트너가 될 지 업계의 관심이 집중되고 있다.

#에프에스티
#에스앤에스텍


https://n.news.naver.com/mnews/article/011/0004269084?sid=101

삼성전자 "EUV '펠리클' 투과율 90%…국내 공급 업체는 없다" [줌 컴퍼니]